高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発やEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説!
本講座は、2022年10月25日開講を予定いたします。
詳細:https://andtech.co.jp/seminar_detail/?id=10694
- Live配信・WEBセミナー講習会 概要
テーマ:高感度化フォトレジスト・メタルレジスト材料の設計と開発・評価
開催日時:2022年10月25日(火) 13:30-17:00
参 加 費:33,000円(税込) ※ 電子にて資料配布予定
U R L :https://andtech.co.jp/seminar_detail/?id=10694
WEB配信形式:Zoom(お申し込み後、URLを送付)
- セミナー講習会内容構成
ープログラム・講師ー
関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授 工藤 宏人 氏
- 本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題
高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発
EUVレジスト材料の合成例と分子設計指針
新規レジスト材料の開発方法
EUVレジスト材料の開発方法
- 本セミナーの受講形式
WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
詳細は、お申し込み後お伝えいたします。
- 株式会社AndTechについて
化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
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弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
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- 本件に関するお問い合わせ
株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス:pr●andtech.co.jp(●を@に変更しご連絡ください)
- 下記プログラム全項目(詳細が気になる方は是非ご覧ください)
講演主旨
フォトレジスト材料は、化学増幅型システムを基盤として、露光システムの変遷と共に進化をしてきた。その進化の変遷について、高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発について解説する。さらに、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説する。また、レジスト材料の基礎的な評価方法を解説し、新規なレジスト材料の開発方法について解説しながら、最新のレジスト材料としてEUVレジスト材料の開発方法について解説する。
プログラム
1.レジスト材料
1.1 原理
1.2 合成例
1.3 最新の化学増幅型
2.ポジ型レジスト材料
3.ネガ型レジスト材料
4.高分子レジスト材料と低分子レジスト
5.レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
6.最新型レジスト材料(メタルレジスト、EB、EUV用レジスト材料)
【質疑応答】
* 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
* 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。
以 上